Tender Notice

Das Leibniz-Institut für Photonische Technologien e.V. schreibt die Lieferung einer Plasma-gestützten Atomlagenabscheidungsanlage (PE-ALD) aus. Das System dient der reproduzierbaren Abscheidung von leitfähigen, halbleitenden und dielektrischen Schichten auf Substraten vom Einzelchipformat (5 x 5 mm²) bis zu 150 mm Wafern. Besondere Anforderungen umfassen die Prozessierung von Multilagen ohne Vakuumunterbrechung sowie die Mitlieferung eines Steuer-PCs mit Windows 11. Die Vergabe erfolgt nach technischen Spezifikationen (70%) und Preis (30%).

Das Leibniz-Institut für Photonische Technologien e.V. beschafft eine Plasma-gestützte Atomlagenabscheidungsanlage (PE-ALD) für die Dünnschichtabscheidung auf Substraten vom Einzelchipformat bis zu 150 mm Wafern, inklusive Steuer-PC und Software.