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Die Hahn-Schickard gGmbH schreibt die Konstruktion, Lieferung, Installation, Inbetriebnahme und Dokumentation eines neuen maskenlosen Lithographiesystems aus. Das System ermöglicht eine hochpräzise Belichtung von Fotolacken im Submikrometerbereich zur Herstellung temporärer und permanenter Masken. Einsatzgebiete umfassen F&E-Prozesse sowie die Produktion kleiner und mittlerer Losgrößen. Die Ausführungsfrist endet am 30.06.2027.
Beschaffung eines maskenlosen Lithographiesystems zur hochpräzisen Belichtung von Fotolacken im Submikrometerbereich für F&E und Produktion.
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Notice ID: 25907402