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Die Westsächsische Hochschule Zwickau schreibt die Anschaffung einer neuen DRIE/ RIE-Anlage (Plasmaätzanlage) aus. Die Anlage dient dem plasmachemischen, reaktiven Silizium-Tiefenätzen und der Bearbeitung von Dielektrika-Schichten. Der Leistungsumfang umfasst die Lieferung der Anlage inklusive Substratelektrode, Kantenschutz, Notching-Kontrolle, Endpunktdetektion sowie Software- und Anlagensteuerung. Zudem sind die Installation, Inbetriebnahme, Schulung der Anwender sowie die Bereitstellung technischer Dokumentationen gefordert. Die Anlage muss für den Einsatz in einem ISO 5 Reinraum geeignet sein und spezifische Prozessparameter für 100mm und 150mm Wafer erfüllen.
Anschaffung einer neuen DRIE/ RIE-Anlage (Plasmaätzanlage) inklusive Softwaresteuerung, Installation, Einweisung und Zubehör für die Forschung an der Westsächsischen Hochschule Zwickau.
Bidder Requirements
Besondere Bedingungen