Beschaffung einer Plasma-gestützten Atomlagenabscheidungsanlage (PE-ALD) für das Leibniz-Institut für Photonische Technologien e.V. in Jena.

Das Leibniz-Institut für Photonische Technologien e.V. schreibt die Lieferung einer Plasma-gestützten Atomlagenabscheidungsanlage (PE-ALD) aus. Die Anlage dient der Abscheidung von leitfähigen, halbleitenden und dielektrischen Dünnschichten auf Substraten von 5x5 mm² bis 150 mm Wafern. Zu den Anforderungen gehören reproduzierbare Prozesse, die Möglichkeit zur Multilagen-Abscheidung ohne Vakuumunterbrechung sowie die Mitlieferung eines Steuer-PCs mit Windows 11. Das Budget beträgt maximal 549.000 Euro brutto.

Beschaffung einer Plasma-gestützten Atomlagenabscheidungsanlage (PE-ALD) für das Leibniz-Institut für Photonische Technologien e.V. zur Dünnschichtabscheidung auf Substraten vom Einzelchipformat bis 150 mm Wafer.