Lieferung einer Atomlagenabscheidungsanlage (ALD) für die Universität Heidelberg zur Abscheidung hochpräziser Dünnfilme für Forschungszwecke.

Die Universität Heidelberg schreibt die Lieferung einer Atomlagenabscheidungsanlage (ALD) aus. Das System muss sowohl thermische als auch plasma-gestützte Abscheidungen von hochpräzisen Dünnfilmen auf planaren und dreidimensionalen Substraten ermöglichen. Ziel ist die Abscheidung von Niobiumnitrit, dielektrischen Dünnfilmen sowie magnetischen Materialien und High-k-Dielektrika. Der Leistungsumfang umfasst die Lieferung, den Funktionstest, die Inbetriebnahme, die Abnahme sowie eine dreitägige Schulung für zwei Mitarbeiter vor Ort. Das Budget ist auf maximal 1.039.000 EUR (brutto) begrenzt.

Lieferung, Montage und Inbetriebnahme einer Atomlagenabscheidungsanlage (ALD) für thermische und plasma-gestützte Prozesse zur Abscheidung hochpräziser Dünnfilme. Das System dient der Forschung an supraleitenden Filmen, dielektrischen Schichten und magnetischen Materialien an der Universität Heidelberg.