Notice ID: de9a61b2-80b1-417a-8e4b-d881a2678703
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Die Fraunhofer-Gesellschaft sucht ein Defect Inspection Tool (IPMS-MRS04.1). Dieses System soll Partikel und Musterfehler auf Wafern erkennen, identifizieren und klassifizieren. Das Gerät muss Substrate mit einer Dicke von 390 µm bis 1200 µm verarbeiten können. Die Empfindlichkeit muss bis zu 200 nm betragen. Das System ist für 200-mm-MEMS-Wafer in einer CMOS-kompatiblen Reinraumumgebung konzipiert. Optionen wie die Verarbeitung von 300-mm-Wafern, Zweikanalinspektion und die Handhabung von Wafern mit hoher Wölbung sind relevant. Spezifische Kontaminationsgrade für Nichtedelmetalle und Edelmetalle sind einzuhalten.
Neubau einer 3-zügigen Grundschule. Passivhausstandard mit Holz-Hybrid-Bauweise. Mensa und Sporthalle integriert.
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