Notice ID: ec6d8d75-4133-4f26-8bf4-db25fc4e356a
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System zur Nasschemikalien-Reinigung für Halbleiter. Reinigt Fotomasken, Wafer-Substrate und runde Wafer. Nutzt Piranha- und SC1-Chemikalien. Ziel: Entfernung von Partikeln größer 250 nm. Optionale Features: Bürstensystem, CO₂-Injektion. Laufzeit 19 Monate.
Reinraum - tbd nach Zuschlagserteilung & Absprache mit FhI.
Bidder Requirements
Role Qualifications
Besondere Bedingungen