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Lieferung eines Plasmasystems (IZM-115.1) für die Halbleiterfertigung. Das System soll nasschemische Verfahren ersetzen und Trockenätztechnologie für feine Strukturen ermöglichen. Es wird ein ICP-System mit hohen Ätzraten für organische Materialien benötigt.
1 Stück: Plasmasystem (IZM-115.1). Trockenätzen ersetzt Nasschemie für feine Strukturen < 5 µm. ICP-System für hohe Ätzraten organischer Materialien.
Anforderungen an den Bieter