Bekanntmachungs-ID: 78dafdba-317d-4683-8068-72628aff83ef
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Die Fraunhofer-Gesellschaft schreibt die Lieferung und Installation eines vollautomatischen Wafer-Reinigungswerkzeugs (IZM-130) aus. Das Gerät soll zur Reinigung und optionalen Ätzung von Wafer-Substraten eingesetzt werden. Es muss in der Lage sein, verschiedene Reinigungstechnologien anzuwenden und eine hohe Partikelkontrolle zu gewährleisten. Das Projekt umfasst die Entladung, Wendung, Nassprozessierung und Rückladung der Wafer. Die Programmierung von Rezepturen ist für F&E erforderlich. Ein Sicherheitsschrank für Chemikalien ist Teil der Ausstattung. Optionale Features wie die Bearbeitung dünner Wafer und spezielle Ätzprozesse sind vorgesehen. Das Projekt ist für KMUs besonders geeignet.
Neubau eines Forschungsgebäudes. Modernes Design mit Fokus auf Funktionalität. Energieeffiziente Bauweise.
Anforderungen an den Bieter
Rollenqualifikationen
Besondere Bedingungen