Lieferung einer Gasphasenabscheidungsanlage (ICP-PECVD) für die Universität Heidelberg zur Herstellung dielektrischer Dünnfilme im Rahmen von Forschungsarbeiten.

Die Universität Heidelberg schreibt die Lieferung, Aufstellung, Inbetriebnahme und Einweisung eines ICP-PECVD-Systems (Inductively Coupled Plasma - Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition) aus. Das System dient der Abscheidung hochwertiger dielektrischer Dünnfilme (Siliziumdioxid, Siliziumnitrid, amorphes Silizium, DLC) für optische Passivierungen, Wellenleiter und Lithographie-Hartmasken. Der Leistungsumfang umfasst die Lieferung des Neugeräts, Funktionstests, Entsorgung der Verpackung sowie eine dreitägige Schulung für zwei Mitarbeiter. Das Budget ist auf maximal 806.000 EUR (brutto) begrenzt. Die Bewertung erfolgt nach der UfAB-Methode basierend auf dem Leistungs-Preis-Verhältnis.

Lieferung und betriebsfertige Übergabe eines ICP-PECVD-Systems (plasma-verstärkte chemische Gasphasenabscheidung mit induktiv gekoppelter Plasmaquelle) zur Herstellung von dielektrischen Dünnfilmen für Forschungszwecke an der Universität Heidelberg.