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Die Friedrich-Schiller-Universität Jena schreibt die Beschaffung einer halbautomatischen Hotplate zur Temperung von mit Resists beschichteten Substraten für die hochauflösende Elektronenstrahllithografie aus. Die Anlage dient zur definierten Pre- und Post-bake-Behandlung chemisch verstärkter Resists, wobei eine hohe Temperaturhomogenität und präzise Temperatur-Zeit-Profile entscheidend sind. Zu prozessierende Substrate umfassen 300mm-Wafer sowie rechteckige Glas-Substrate bis zu 300mm x 275mm x 15mm. Die Vergabe erfolgt nach wirtschaftlichsten Gesichtspunkten (40% Preis, 60% technische Ausführung).
Beschaffung einer halbautomatischen Hotplate zur Temperung von mit Resists beschichteten Substraten für die hochauflösende Elektronenstrahllithografie.
Anforderungen an den Bieter
Besondere Bedingungen