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Ausschreibung eines Präzisionspoliersystems für III-V-Materialien. Das System muss eine Oberflächenrauheit von RMS < 1 nm erreichen. Es sind eine hohe Kontrolle der Gesamtdickenabweichung (TTV) und gute Reproduzierbarkeit erforderlich. Dies dient der Verbesserung der Emissionscharakteristik und der Herstellung spannungsfreier Quantenpunkte. Das System soll die Herstellung von photonischen Strukturen und quantenphotonischen integrierten Schaltungen ermöglichen.
Präzisionspoliersystem für III-V-Materialien. Oberfläche RMS < 1 nm. TTV-Kontrolle und Reproduzierbarkeit.
Anforderungen an den Bieter
Besondere Bedingungen