Notice ID: 25072838
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Beschaffung eines teil-automatischen Reinigungssystems für fotolithografische Masken in der Halbleiterindustrie. Installation in einem Reinraum. Reinigung von 6", 7" und 9" Masken durch austauschbaren Chuck.
Beschaffung eines teil-automatischen Reinigungssystems für fotolithografische Masken. Es müssen 6", 7" und 9" Masken gereinigt werden können. Installation in einem Reinraum.