Ausschreibung

Bekanntmachungs-ID: 25072838

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FS

Friedrich Sommer

Vertriebskoordinator

LOUPZ GmbH & Co. KG

Veröffentlicht
vor 12T
Heute
Abgabe
in 3T
Fraunhofer ENAS
Projektübersicht

Beschaffung eines teil-automatischen Reinigungssystems für fotolithografische Masken in der Halbleiterindustrie. Installation in einem Reinraum. Reinigung von 6", 7" und 9" Masken durch austauschbaren Chuck.

Beschaffung eines teil-automatischen Reinigungssystems für fotolithografische Masken. Es müssen 6", 7" und 9" Masken gereinigt werden können. Installation in einem Reinraum.

Standort Projekt
09126 Chemnitz, DEU
Originaltitel: teil-automatisches Reinigungssystems für fotolithgrafische Masken
deen