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Beschaffung eines teil-automatischen Reinigungssystems für fotolithografische Masken zur Installation in einem Reinraum für 6", 7" und 9" Masken.

Contracting Authority
Fraunhofer ENAS
Location
Sachsen, 09126 Chemnitz
Submission deadline
16.09.2026
Scope
National
Timeline
Published
2d ago
Today
Submission
in 17d
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Source: deutsche-evergabe.de Published on: 28.08.2026 Original Title: teil-automatisches Reinigungssystems für fotolithografische Masken

Project Overview

Das Fraunhofer ENAS schreibt die Beschaffung eines teil-automatischen Reinigungssystems für fotolithografische Masken aus. Das System ist für den Einsatz in der Halbleiterindustrie vorgesehen und muss für die Installation in einem Reinraum geeignet sein. Eine zentrale technische Anforderung ist die Flexibilität bei der Maskengröße: Durch den Austausch des Chucks müssen 6", 7" und 9" Masken prozessiert werden können.

Beschaffung eines teil-automatischen Reinigungssystems für fotolithografische Masken in der Halbleiterindustrie zur Installation in einem Reinraum. Das System muss 6", 7" und 9" Masken durch einen austauschbaren Chuck reinigen können.

Project Location
09126 Chemnitz, Deutschland

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"I think the tool is so cool that I've already told two other companies about it."
RS
Robin Schönbach
Lead Business Developer ·Kaulquappe

Notice ID: 25766252

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