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Das Fraunhofer ENAS schreibt die Beschaffung eines teil-automatischen Reinigungssystems für fotolithografische Masken aus. Das System ist für den Einsatz in der Halbleiterindustrie vorgesehen und muss für die Installation in einem Reinraum geeignet sein. Eine zentrale technische Anforderung ist die Flexibilität bei der Maskengröße: Durch den Austausch des Chucks müssen 6", 7" und 9" Masken prozessiert werden können.
Beschaffung eines teil-automatischen Reinigungssystems für fotolithografische Masken in der Halbleiterindustrie zur Installation in einem Reinraum. Das System muss 6", 7" und 9" Masken durch einen austauschbaren Chuck reinigen können.
"Ich finde das Tool so gut, dass ich direkt zwei weiteren Unternehmen davon erzählt habe."
Bekanntmachungs-ID: 25766252