Tender Notice

Das Fraunhofer IAF schreibt die Beschaffung eines Elektronenstrahl-Verdampfungssystems (E-Beam) aus. Die Anlage dient der Metallbeschichtung von 150-mm-Wafern in einer wassergekühlten Hochvakuum-Prozesskammer. Das System muss sowohl für die vertikale als auch für die schräge Metallabscheidung (Substratneigung 45 Grad) ausgelegt sein und über eine computergestützte Steuerung verfügen. Die Vertragslaufzeit beträgt 7 Monate. Bieter müssen Referenzen für mindestens drei vergleichbare Verdampfungssysteme der letzten drei Jahre vorlegen.

Anschaffung einer wassergekühlten Elektronenstrahl-Verdampfungsanlage (E-Beam) für die Metallbeschichtung von 150-mm-Wafern im Hochvakuum, inklusive vertikaler und schräger Abscheidung.