Tender Notice
Notice ID: 64d2a9e6-5a42-4875-bf91-bc83fb82be30
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Das Fraunhofer IAF schreibt die Beschaffung eines Elektronenstrahl-Verdampfungssystems (E-Beam) aus. Die Anlage dient der Metallbeschichtung von 150-mm-Wafern in einer wassergekühlten Hochvakuum-Prozesskammer. Das System muss sowohl für die vertikale als auch für die schräge Metallabscheidung (Substratneigung 45 Grad) ausgelegt sein und über eine computergestützte Steuerung verfügen. Die Vertragslaufzeit beträgt 7 Monate. Bieter müssen Referenzen für mindestens drei vergleichbare Verdampfungssysteme der letzten drei Jahre vorlegen.
Anschaffung einer wassergekühlten Elektronenstrahl-Verdampfungsanlage (E-Beam) für die Metallbeschichtung von 150-mm-Wafern im Hochvakuum, inklusive vertikaler und schräger Abscheidung.
Bidder Requirements
- Eigenerklärung über das Nichtvorliegen von Ausschlussgründen nach §123 und § 124 GWB
- Eigenerklärung-Selfdeclaration (EU) Nr. 833/2014
- Referenzen für mindestens drei vergleichbare Verdampfungssysteme (nicht älter als drei Jahre)
- Nachweis über Umsatz der letzten 3 Geschäftsjahre
Besondere Bedingungen
- Einsatz von Nachunternehmern muss gemeldet und deren Eignung nachgewiesen werden
- Zuschlagskriterien: 65% Technik, 35% Preis