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Die Fraunhofer-Gesellschaft beschafft ein feldfreies (ohne Immersionsoptik) fokussiertes Ionenstrahlsystem (FIB-SEM) in Kombination mit einem hochauflösenden Rasterelektronenmikroskop. Das System wird für die Strukturierung, Nanostrukturierung sowie Querschnitts- und Oberflächenanalyse von III/V-Halbleitern, LNOI, Polymeren und Resists eingesetzt. Zum Lieferumfang gehören optional eine 15-tägige Fortgeschrittenenschulung, ein Gasinjektionssystem sowie ein Softwaremodul zum Import von KLAF-Dateien. Die Anforderungen umfassen zudem die Einhaltung von Spezifikationen bezüglich Bodenvibrationen, akustischer Interferenzen und magnetischer Felder.
Beschaffung eines feldfreien FIB-SEM Dualbeam Systems inklusive Zubehör für die Nanostrukturierung und Analyse von Halbleitermaterialien am Standort Berlin.
Bidder Requirements
Besondere Bedingungen