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Anschaffung einer chemisch-mechanischen Poliermaschine (CMP) für die Friedrich-Schiller-Universität Jena zur Bearbeitung von Halbleiter- und Dielektrikaoberflächen.

Contracting Authority
Friedrich-Schiller-Universität Jena
Location
Thüringen
Submission deadline
13.10.2026
Scope
EU-wide
Timeline
Published
Today
Submission
in 35d
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Source: evergabe-online.de Published on: 08.09.2026 Original Title: Chemisch-mechanische Poliermaschine

Project Overview

Die Friedrich-Schiller-Universität Jena beabsichtigt die Anschaffung einer chemisch-mechanischen Poliermaschine (CMP) für wissenschaftliche Zwecke. Die Maschine ist für das Polieren von Halbleiter- und Dielektrikaoberflächen für optische Anwendungen vorgesehen und muss für Wafer-Probengrößen bis 100 mm Durchmesser sowie eine RMS-Rauigkeit von unter 1 Nanometer geeignet sein. Das Budget ist auf maximal 225.000,00 Euro netto begrenzt.

Anschaffung einer chemisch-mechanischen Poliermaschine (CMP) für die Friedrich-Schiller-Universität Jena zum Polieren von Halbleiter- und Dielektrikaoberflächen für optische Anwendungen.

Project Location
Deutschland

Suitability & requirements

Bidder Requirements

  • Nachweis der Eintragung in das Handelsregister
  • Umsatznachweis von mind. 500.000 EUR jährlich im relevanten Geschäftsbereich
  • Betriebshaftpflichtversicherung mit definierten Deckungssummen
  • Vorlage von drei vergleichbaren Referenzaufträgen der letzten 5 Jahre

Technical details

Besondere Bedingungen

  • Ausschluss von Angeboten über 225.000,00 Euro netto
  • Zahlungsziel 30 Tage
  • E-Rechnung erforderlich

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