Öffentliche Ausschreibung Noch 35 Tage

Anschaffung einer chemisch-mechanischen Poliermaschine (CMP) für die Friedrich-Schiller-Universität Jena zur Bearbeitung von Halbleiter- und Dielektrikaoberflächen.

Auftraggeber
Friedrich-Schiller-Universität Jena
Standort
Thüringen
Abgabefrist
13.10.2026
Reichweite
EU-weit
Zeitplan
Veröffentlicht
Heute
Abgabe
in 35T
Vergabeunterlagen zusammenfassen lassen

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Quelle: evergabe-online.de Veröffentlicht am: 08.09.2026 Originaltitel: Chemisch-mechanische Poliermaschine

Projektübersicht

Die Friedrich-Schiller-Universität Jena beabsichtigt die Anschaffung einer chemisch-mechanischen Poliermaschine (CMP) für wissenschaftliche Zwecke. Die Maschine ist für das Polieren von Halbleiter- und Dielektrikaoberflächen für optische Anwendungen vorgesehen und muss für Wafer-Probengrößen bis 100 mm Durchmesser sowie eine RMS-Rauigkeit von unter 1 Nanometer geeignet sein. Das Budget ist auf maximal 225.000,00 Euro netto begrenzt.

Anschaffung einer chemisch-mechanischen Poliermaschine (CMP) für die Friedrich-Schiller-Universität Jena zum Polieren von Halbleiter- und Dielektrikaoberflächen für optische Anwendungen.

Standort Projekt
Deutschland

Eignung & Anforderungen

Anforderungen an den Bieter

  • Nachweis der Eintragung in das Handelsregister
  • Umsatznachweis von mind. 500.000 EUR jährlich im relevanten Geschäftsbereich
  • Betriebshaftpflichtversicherung mit definierten Deckungssummen
  • Vorlage von drei vergleichbaren Referenzaufträgen der letzten 5 Jahre

Technische Details

Besondere Bedingungen

  • Ausschluss von Angeboten über 225.000,00 Euro netto
  • Zahlungsziel 30 Tage
  • E-Rechnung erforderlich

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RT
Robert Tech
Geschäftsführer ·assecor GmbH

Bekanntmachungs-ID: f8934a72-e9e0-4afc-bfaa-80a88b3bbdb2

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