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Die Fraunhofer-Gesellschaft beschafft ein feldfreies (ohne Immersionsoptik) fokussiertes Ionenstrahlsystem (FIB-SEM) in Kombination mit einem hochauflösenden Rasterelektronenmikroskop. Das System dient der Strukturierung, Nanostrukturierung sowie Querschnitts- und Oberflächenanalyse von III/V-Halbleitern, LNOI, Polymeren und Resists. Zum Lieferumfang gehören optional eine 15-tägige Fortgeschrittenenschulung, ein Gasinjektionssystem sowie ein Softwaremodul zum Import von KLAF-Dateien.
Beschaffung eines feldfreien FIB-SEM Dualbeam Systems zur Nanostrukturierung sowie Querschnitts- und Oberflächenanalyse von Halbleitern, Polymeren und Resists.
Anforderungen an den Bieter
Besondere Bedingungen